Laut Xataka sind sich Experten auf dem Gebiet der integrierten Schaltkreisherstellung fast zwei Monate nach der Veröffentlichung des Mate 60 Pro einig, dass die SMIC-Ingenieure zur Entwicklung der Chips ASMLs TwinScan NXT:2000i UVP-Immersionslithografie-Ausrüstung sowie von Huawei entwickelte Werkzeuge verwendet haben. Obwohl sie nicht so fortschrittlich ist wie die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV), können UVP-Ausrüstungen zur Herstellung von 5-nm- und 7-nm-Chips verwendet werden, solange der Herstellungsprozess ausreichend ausgereift ist.
Die Herstellung eines 5-nm-Chips aus dem TwinScan NXT:2000i UVP selbst wäre eine technologische Meisterleistung
Einer der Experten, die dies aufgedeckt haben, war Burn-Jeng Lin, ein Elektroingenieur und Vizepräsident von TSMC. In einem kürzlichen Interview mit Bloomberg sagte Lin, die USA könnten China nicht daran hindern, seine Halbleiterfertigungstechnologie weiter zu verbessern. Tatsächlich kann SMIC mit der TwinScan NXT:2000i UVP-Anlage 5-nm-Chips produzieren.
TechInsights prognostizierte Anfang September, dass 5-nm-Chips möglich seien, wenn es den SMIC-Ingenieuren gelänge, den Integrationsprozess mithilfe der UVP-Anlagen von ASML so zu optimieren, dass 7-nm-Chips produziert werden könnten. Einer der damals aufkommenden Zweifel betraf die Leistung pro Wafer, die SMIC erreichen könnte. Huaweis Aussagen deuteten jedoch darauf hin, dass SMIC genügend Chips produzieren könnte, um die Nachfrage nach 70 Millionen Mate 60 Pros zu decken.
Die Herstellung von 5-nm-Chips ist deutlich komplexer als die von 7-nm-Chips. Theoretisch könnte der TwinScan NXT:2000i dies ermöglichen, allerdings müssten die SMIC-Ingenieure auf Wafer umsteigen, um die Auflösung des Lithografieprozesses zu erhöhen. Es ist wahrscheinlich, dass die SMIC-Ingenieure diese Technik zur Herstellung des Kirin 9000S verwendet haben, aber für die Herstellung von 5-nm-Chips müssten sie deutlich komplexere Muster verwenden.
Experten zufolge wäre es keine Überraschung, wenn in den nächsten Monaten ein neues Huawei-Smartphone mit einem 5-nm-Chip von SMIC auf den Markt käme. Sollte dies geschehen, wäre dies ein großer Erfolg, da dies mit einem ASML-UVP-Gerät extrem schwierig, wenn nicht gar unmöglich ist. Die US-Sanktionen wurden seit dem 16. November verlängert, um ASML daran zu hindern, den TwinScan NXT:2000i nach China zu liefern. Darüber hinaus steht sogar der TwinScan NXT:1980Di auf der Verbotsliste. Vor diesem Hintergrund kann China dies nur durch die Entwicklung und Produktion einer eigenen EUV-Maschine überwinden. Das Land forscht derzeit an einer eigenen EUV-Maschine, doch wird dies voraussichtlich erst Ende des Jahrzehnts geschehen.
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